什么时候可以在光刻领域首次亮相?

2019-11-11 14:47栏目:热点
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原标题:虚惊一场,国内的“主路”很艰难,有可能在光刻术中首次亮相吗?

在过去两年中,家用半导体的发展已开始迅速发展。从海西到集光和中芯国际的许多国家半导体公司都取得了自己的成就。华为HiSilior的成就对每个人都是显而易见的。近年来,产品性能变得相对较强,逐渐达到成熟阶段。紫罗兰也是该国的老将,在智能和闪存方面拥有自己的成就。

两家公司之间的主要区别在于SMIC模型与TSMC基本相似,因此发展方向与其他公司不同。不久前,中芯国际已经开始批量生产14纳米芯片,但是从某种角度来看,中芯国际可以成为国家半导体产业的“后盾”。

中芯国际最重要的事情应该是光刻机。由于技术上的困难和零件的进口困难,光刻机在中国仍然是一个重大突破。光刻机的制造一直是一项艰巨的任务,但是目前有可能仅依靠进口的荷兰语。 ASML设备制造商正在成长。

全文扩展 但是,据日本媒体报道,ASML制造商已停止与SMIC合作,这意味着SMIC暂时无法使用ASML光刻设备。该交付称为“停止”。当时,许多人感到惊讶和悲观。毕竟,在中国,光刻机仍可能是劣势,如果供应中断,国家半导体公司将无法高效生产。这对国家半导体公司具有重大影响。

但是,中芯国际已通过说明生产和研发目前处于正常状态来对此问题做出了回应,但这是由于该申请已被重新申请延期交货。在官方的回应中,许多人说他们感到虚假的警报,而不是我们担心的“服务中断”。此事件还表明光刻机在国家半导体行业中的重要性。

从此事件中,我们还可以期望光刻机本身的性能。随着第一个华为面临真正的危机,“准备轮胎”可以发生积极变化,从而避免使用技术或设备。通过地图。 “如前所述,ASML光刻机很难生产,主要是因为它们在组件方面受阻,从而有可能获得最新结果。

但是,如果您真的希望我们的国家使用光刻技术,那就是这种情况。中国光刻机以前是独立开发和批量生产的,是一种90纳米光刻机,虽然技术上还很先进,但是技术难度巨大,有必要进行研究。和独立开发一段时间。

90 nm,但在光刻领域,90 nm是关键阶段的一部分,在克服这一障碍之后,将解决先进技术,这将加快开发速度。在接受采访时,中国科学院相关研究机构还表示,即使发生重大禁运,也不必担心,因为国家技术正在发展,并且可能会出现在实地。未来。拐弯处的超车情况是大生意。

即使在基本的光刻机领域,我们仍然必须依靠国外的设备,但是我们可以看到我们正在非常努力地工作,但是我相信有一天我们一定会完成“超调”。自豪地开展独立研发和独立生产活动。您认为今天的到来会远远落后吗?

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