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電子特種氣體

四氟化碳(CF4)

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詳情介紹:

四氟化碳(CF4)
化學式 CF4
中文名稱 四氟化碳
英文名稱 Carbon  tetrafluoride
CAS No. 75-73-0
分子量 88.005
充裝量 13.5Mpa(21.1度)
應用 四氟化碳是目前半導體產業中用量最大的等離子蝕刻氣體,其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。對于硅和二氧化硅體系,采用CF4-H2反應離子刻蝕時,通過調節兩種氣體的比例,可以獲得45:1的選擇性,這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。

  四氟化碳,又稱為四氟甲烷、Freon-14及R 14,是一種鹵代烴(化學式:CF4)。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳,也可被視為一種無機化合物。   -198 °C時,四氟化碳具有單斜的結構,晶格常數為a = 8.597, b= 4.433, c = 8.381 (.10-1 nm), β = 118.73° 。
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